次世代の超LSIの微細パターン形成の有力な技術（図）。SORリングで発生したX線を，X線ミラー光学系（ビームライン）を通して露光装置へと導く。露光装置にX線マスクを装填しておき，シリコンウエハ（LSI基板）を順次移動させながらX線を照射することにより，マスクに描かれたLSI回路パターンをウエハに露光転写する。LSI製造においては極めて清浄な環境が不可欠であるので，露光装置はクリーンルームに配置している。クリーンルームはSORリング室に隣接してつくり，ビームラインが壁を貫通してSORリングと露光装置を結ぶ構成としている。

LSIのパターンをウエハ上に転写する光は，その波長が短いほど微細なパターンが転写できる。そこで，シンクロトロン放射装置から取り出される波長の短いX線をその光源として利用するのがSORリソグラフィである。