SIMOX基板上に，シリコンの微小島とトンネル障壁とを同時に形成するために開発した技術。パターン加工されたシリコン薄膜を，酸素雰囲気中で酸化すると，設計パターンに応じた酸素の拡散と酸化に伴う応力の蓄積により，シリコンの残量が平面内で変調される。シリコンが少ないところは，量子力学的効果によりトンネル障壁になる。